BAO Mask Avenger是一款好用的AE的高級遮罩腳本。這款軟件支持控制Mask(遮罩)的頂點及切線。支持為頂點添加3D模式(Z軸)，支持對頂點添加表達式控制，感興趣的朋友不要錯過了。

軟件說明

BAO Mask Avenger是一款AE的高級遮罩腳本，這款腳本可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點，同時在三維空間做路徑動畫。

功能特色

拉姆預覽保護。以前版本的最大問題是Ram預覽無效通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點。3D面具。 Mask Avenger現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無需使用空圖層和表達式。然后更快地計算掩模，并簡化表達式寫入。背景烘焙。當需要修改蒙版時，蒙版復仇者會立即對其進行轉換當前時間，并在后臺烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作而面具復仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。更好地塑造層兼容性。與“動態(tài)”模式相關的錯誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。工作區(qū)和圖層的持續(xù)時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當然，烘焙100,000個關鍵幀需要超過10個，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作而它正在烘烤。不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運行速度更快。面具預覽。 Mask avenger 2.0有一個預覽系統(tǒng)，可以動態(tài)地顯示它們之前的變化適用于面具。這可以避免在表達式，其他圖層或相機修改蒙版時出現(xiàn)延遲。

蒙版控制說明

使用After Effects中的本機插件單獨控制蒙版頂點(和切線)!

每個頂點都由一個點參數(shù)單獨驅動，具有您可以預期的所有功能：

關鍵幀，緩動，表達式和3D空間。

您可以選擇僅使用頂點或完全控制切線。

集成腳本將幫助您使用表達式，并允許您將2D蒙版轉換為3D蒙版。

通過簡單的拾取 - 鞭子表達式將掩碼頂點鏈接到跟蹤器點。

使用“烘焙”。 模式以關鍵幀你的面具與沒有面具復仇者的用戶分享你的項目。

Mask Avenger是一個原生的After Effects插件。